今年上半期知識財産権出願及び登録件数前年と比べ減少
  出願1.9%減少(184,831件)、登録14.3%減少(106,415件)
  大手企業特許質的管理戦略

▷特許庁が発表した2008年上半期の知識財産権動向によれば、出願件数が前年冬季対比1.8%減少した184、831件、登録件数は14.3%減少した106,415件のことが表れた。
今年上半期知識財産件の出願敬意数は権利別では、特許が2.1%、室用新案18.8%、デザイン0.6%減少した。

出願動向を調べてみると、内国人に比べ、外国人の占有率が1%増加した。また、大手企業は出願件数が前年冬季対比13.2%減少、中小・小企業などは小幅増加した。
市道別出願現況を調べてみると、大邱、全羅, 大田、濟州地域を除いた全地域から減少し、濟州島はベンチャー企業などの移転などで増加率を見えた。


▷出願国家別には、日本が1位を占めたが、前年冬季対比0.9%減少、反面、米国、ドイツ、フランスは平均約5.2%増加した。特に、中国は588件で、前年冬季対比63.3%の高い増加勢を見せていて、イギリス、スイス、オーストラリア、ベルギーなども高い増加勢を見せている。
今年上半期の登録現況は大手企業の登録件数が前年冬季対比14.3%減少した。これは、大手企業の特許の質的管理戦略によって、前年冬季対比特許、室用新案、商標、デザインの分野で全部減少し、サムソン電子の場合53.5%、LG電子の場合65%減少した。

▷1次審査処理件数は、前年冬季対比2.1%増加した186.709件を処理した。PCT国際調査は低廉な手数料と値段対比優れた審査品質で、米国企業の出願件数の急増に、前年冬季対比56.2%増加した6、362件を処理した。
審査処理期間は特許・室用新案9.5ヶ月、デザイン4.9ヶ月、商標5.7ヶ月で全体的に処理期間が短縮した。
なお、審判請求件数は、特許は前年冬季対比11%減少、室用新案22%、デザイン363件で、44.6%増加した。特許審判処理件数も全体的に増加した。

「特許と商標第695号」
2008.08.05

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